硅溶胶抛光液主要是纳米级工艺，主要粒径10-150nm，各类产品镜面处理都可以使用，常用于平面研磨配合二氧化硅抛光液做镜面的材质有硅胶片表面抛光、光学晶体镜面、精密电子金属元件、蓝宝石玻璃、显示玻璃等产品，基本上都是高精密的产品使用。
硅溶胶抛光液又称为二氧化硅抛光液，二氧化硅是硅溶胶的化学名称，至今已经延伸到了半导体产品的抛光工序，平面研磨机可以将二氧化硅抛光液通过循环方式，导入磨盘中同样起到润滑冷却的作用，可以将表面粗糙度达到0.2um以下，品质要求高的产品建议首选硅溶胶抛光液。
硅溶胶抛光液具有去除率高的特点，可以达到0.9-1.2um/min的去除率，提高抛光产能，使用非常方便，可以直接使用无需兑水，抛光效果好，出光快，不划算表面工件，不会产生发雾现象，镜面抛光首选推荐硅溶胶抛光液。
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